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半導體材料
碳化硅拋光液 適用于硅片、砷化鎵(GaAs)、氮化鎵(GaN)等半導體材料的拋光。它能有效去除表面微觀不平和缺陷,提高材料的光學和電學性能,確保半導體器件的質(zhì)量。
用于拋光透鏡、棱鏡和光纖端面,碳化硅拋光液能形成極為光滑的表面,避免劃痕,提高光學元件的質(zhì)量和性能。
碳化硅拋光液特別適用于陶瓷、碳化鎢等超硬材料的拋光。這些材料因其高硬度而難以加工,但碳化硅的高硬度微粒能夠有效切削和拋光這些材料,達到理想的光潔度和精度。
在金屬加工領域,碳化硅拋光液適用于不銹鋼、鈦合金等金屬材料的拋光處理。其高效的拋光能力能夠去除表面氧化層和細小劃痕,形成光潔的表面,提高金屬制品的外觀質(zhì)量和耐腐蝕性能。
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